Базовый метод вакуумного серебрения PVD.

Базовый метод вакуумного серебрения PVD.

Основные методы PVD: вакуумное испарение, напыление, ионное осаждение (ионное осаждение с полым катодом, ионное осаждение с горячим катодом, дуговое ионное осаждение, реактивно-ионное осаждение, радиочастотное ионное осаждение, ионное осаждение с разрядом постоянного тока). Технология PVD — это высокотехнологичная и широко используемая в мире технология ионного покрытия. Он обладает характеристиками плотного и однородного слоя покрытия, сильной адгезии, хороших свойств покрытия, быстрой скорости осаждения, низкой температуры обработки и широкого спектра материалов покрытия. Лучший выбор для инженерного дела.

Вакуумное PVD-осаждение серебра из паровой фазы

PVD-физическое осаждение из паровой фазы: относится к процессу переноса атомов или молекул от источника к поверхности подложки с использованием физических процессов для достижения переноса материала. Его функция заключается в распылении некоторых частиц с особыми свойствами (высокая прочность, износостойкость, теплоотдача, коррозионная стойкость и т. д.) на матрицу с более низкими характеристиками, чтобы матрица имела более высокие характеристики.

Метод высокоскоростного и низкотемпературного напыления для вакуумного серебрения.

Распыление обычно относится к магнетронному распылению, которое представляет собой метод высокоскоростного низкотемпературного распыления. Для этого процесса требуется степень вакуума около 1×10-3Торр, то есть состояние вакуума 1,3×10-3Па заполняется инертным газом аргоном (Ar) и добавляется между пластиковой подложкой ( анод) и металлической мишени (катод). При подаче постоянного тока высокого напряжения электроны, генерируемые тлеющим разрядом, возбуждают инертный газ для генерации плазмы, а плазма взрывает атомы металлического материала мишени и осаждает их на пластиковой подложке. Обычно напыление на постоянном токе используется для большинства металлических покрытий, а напыление на переменном токе ВЧ используется для непроводящих керамических материалов.

Ионное осаждение — метод, при котором газ или испаренные вещества частично ионизируются газовым разрядом в условиях вакуума, а испаряемые вещества или их реагенты осаждаются на подложку под бомбардировкой ионов газа или ионов испаренного вещества. К ним относятся ионное осаждение магнетронным распылением, реактивное ионное осаждение, ионное осаждение с полым катодом (метод испарения полого катода), многодуговое ионное осаждение (ионно-дуговое осаждение с катодом) и т. д.

www.superbheater.com